光催化劑超高速分散機,光催化材料應用中,一般需要將二氧hua鈦分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微粒化、均勻化的處理過程,這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產品更穩定。
查看詳細介紹光觸媒涂料研磨分散機,光觸媒涂料應用中,一般需要將二yang化鈦光觸媒分散到涂料基料中,形成懸浮液,需要對光觸媒環保涂料體系進行研磨分散,結合多家客戶案例,推薦GMSD2000系列超高速研磨分散機,兩級結構,先研磨后分散,轉速0-18000rpm,研磨分散效果好,粒徑小,均勻度高。
查看詳細介紹霧化石墨乳研磨分散機,石墨乳改進型高速膠體磨SID循環式作業方式的研磨分散機是一款改進型膠體磨,特別適合新材料的研究制備,目前已成功應用于硅硼漿、石墨烯、石墨烯改性材料、碳納米管、光伏材料、光催化研究,軍工研究等多項科研和生產中。
查看詳細介紹氧化鈷漿料研磨分散機,氧化鈷粉體粒徑一般為10微米左右,需要加入液體介質中分散應用,氧化鈷+液體介質+分散劑采用GMSD2000系列研磨分散機進行研磨分散,解決團聚問題,更均勻的分散,并進一步細化粒徑,一般分散后粒徑為D90小于1微米,分散效果好,效率高。
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